產(chǎn)品時間:2024-11-19
技術(shù)參數(shù): 1、干涉濾光片:出廠標(biāo)配410nm,451nm,490nm,630nm四個濾光片多可以安裝8個干涉濾光片,適應(yīng)多種項目檢測需要。2、檢測通道: 9通道光路系統(tǒng),其中8路光源用于48孔板的光路信號檢測。另外一道光路用于校準光源,作光源系統(tǒng)的補償及光源工作情況的監(jiān)測3、光源:鹵素鎢燈4、可選擇1-96通道同時檢測5、波長范圍:400-800nm6、測試范圍: 0~4A7、
96通道農(nóng)藥殘留檢測儀根據(jù)國家標(biāo)準GB/T5009.199-2003研制,嚴格遵循《蔬菜中有機磷和氨基甲酸酯類農(nóng)藥殘留快速檢測方法標(biāo)準》中的規(guī)定對蔬菜中有機磷和氨基甲酸酯類農(nóng)藥殘留的快速測定。是國內(nèi)*代農(nóng)藥殘留檢測儀的升級換代產(chǎn)品,與農(nóng)殘酶試劑配合使用能快速檢測樣品中的農(nóng)藥殘留量,檢測更加準確。廣泛用于蔬菜、水果、糧食、茶葉以及土壤中有機磷和氨基甲酸脂類農(nóng)藥殘留的快速檢測。
技術(shù)參數(shù):
1、干涉濾光片:出廠標(biāo)配410nm,451nm,490nm,630nm四個濾光片多可以安裝8個干涉濾光片,適應(yīng)多種項目檢測需要。
2、檢測通道: 9通道光路系統(tǒng),其中8路光源用于48孔板的光路信號檢測。另外一道光路用于校準光源,作光源系統(tǒng)的補償及光源工作情況的監(jiān)測
3、光源:鹵素鎢燈
4、可選擇1-96通道同時檢測
5、波長范圍:400-800nm
6、測試范圍: 0~4A
7、分辨率 0.001Abs(顯示),0.0001Abs(計算)
8、準確度: ±1%(0~2A)
9、線性誤差 ±0.1%(0~2A)
10、重復(fù)性 ±0.005A(0~2A)
11、穩(wěn)定性 ≤0.005A/小時
儀器特點:
1、儀器預(yù)留其他項目檢測程序和端口,根據(jù)日后需求可方便的自主增加檢測項目。日后可升級為檢測,水產(chǎn)品,肉制品,面制品的綜合類型儀器。如:農(nóng)藥殘留、甲醛、吊白塊、二氧化硫、亞硝酸鹽、硝酸鹽、醬油氨基酸態(tài)氮、雙氧水、硼砂、甲醇、奶粉蛋白質(zhì)、過氧化苯甲酰、過氧化值、茶多酚檢測儀、酸價、離棉酚、重金屬鉛、孔雀石綠等項目
2、1-96個樣品同時檢查,互不干擾
3、大屏幕液晶中文顯示,人性化操作界面,讀數(shù)準確、直觀、中文提示操作無需專業(yè)人員即可操作
4、時鐘功能采用美國DALLAS日歷時鐘芯片
5、接口方式: RS-232/USB, 可以使用RS232或者USB接口和PC機通訊,并控制儀器工作;實現(xiàn)數(shù)據(jù)查詢、瀏覽、分析、統(tǒng)計、打印和發(fā)布信息。
6、智能化程度高:儀器可以自動診斷系統(tǒng)故障;儀器開機均進行光源自檢,無需國內(nèi)同類型儀器理由檔光塊人工調(diào)校。
7、自動保存檢測結(jié)果,數(shù)據(jù)存儲量大,內(nèi)置微型熱敏打印機,終身無需更換色帶,可實時打印檢測結(jié)果。
9、檢測報告可打印樣品名稱,抑制率,是否合格,檢測日期 ,檢測單位。更能體現(xiàn)檢測結(jié)果的性,并利于公示
10、儀器可存儲檢測數(shù)據(jù),可隨時查詢,保存信息包括,樣品名稱,檢測時間,檢測人員,檢測數(shù)據(jù),結(jié)果判斷等詳實數(shù)據(jù)(中文)
11、微機控制和儀器單獨檢測均可,操作更靈活
12、存儲:大容量存儲器,可以存儲8000-10000組測量原始數(shù)據(jù)
13、振板功能:速度和時間可調(diào),快速混勻孔內(nèi)液體,便于準確測量
14、具有查詢、打印、匯總等功能,可直接輸出檢測結(jié)果,軟件*升級
15、具有對光路,機械運動部件等進行自檢和報警功能,確保儀器處于良好的工作狀態(tài)
16、雙波長兩種測量模式功能,用戶可以根據(jù)需要選擇合適的測量模式
17、儀器具有定性定量分析功能,可以輸出原始吸光度報告,濃度數(shù)據(jù)報告,定性分析的陰陽性結(jié)果判定報告。
18、具有查詢、打印、匯總等功能,可直接輸出檢測結(jié)果,軟件*升級
19、采用美觀、耐用的鋁合金包裝箱
20、儀器通過《食品安全檢測儀通用技術(shù)》認證。
21、內(nèi)建獸殘留國家標(biāo)準作為檢測結(jié)果的判定的參考依據(jù)。
儀器正常工作條件
1 環(huán)境溫度:5℃ ~+32℃;
2 相對濕度:≤85%;
3 大氣壓力:860hPa ~ 1060hPa;
4 遠離強電磁場干擾源,避免強光直接照射